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动力,因我们而不同*

大功率电子设备散热

功率攀升:高性能芯片的功率需求持续增长

半导体行业持续践行摩尔定律,不断突破半导体芯片的功率与性能上限。性能更强、算力更高、结构更复杂的芯片,功率密度更高,因而产生的热量更多。伊顿等热技术创新企业正在开发新方法,应对芯片功率与性能的指数级增长带来的散热挑战。

半导体新技术不断推高散热需求
近几年,芯片功率几乎翻倍,创新方案的散热需求从 2020 年的 400 瓦提升到 2023 年的 750 瓦。预计到 2025 年,高性能应用的功率需求将达到或超过 1500 瓦,传统液冷或将难以有效应对此类芯片持续增长的散热需求。
Eaton new semiconductor technologies
芯片功率攀升,亟需创新散热技术
Eaton above and beyond traditional structures

伊顿的先进液体冷却技术:突破传统液体冷却的性能边界

采用融合两相冷却与液冷系统的先进液体冷却技术,组成泵驱两相系统或蒸发式液体冷却方案,应对高性能芯片功率增长带来的各类散热挑战。蒸发式液体冷却结合了两种冷却技术的优势,支持构建更高密度的电子设备。

伊顿在冷却技术方面的长期积累,为持续研发更有效、更高效的冷却方案奠定了坚实基础。

携手伊顿开展创新:为下一代半导体提供高效散热

伊顿拥有成熟的两相冷却技术(三维均热板、热虹吸管等)和液冷系统(冷却液分配单元、液冷板、冷水机组等)。依托这些技术积累,我们探索创新路径,开发先进散热方案,可对功率超过 1600 瓦的芯片实现高效散热。这类芯片对于云计算和电动汽车行业中的人工智能、自主计算等快速发展的应用领域至关重要。

伊顿研发团队着眼于半导体未来数年的技术迭代。如果您的芯片散热需求超出当前常规方案能力,欢迎联系我们。我们可能已经在研发相关解决方案了。

伊顿预计半导体功率将呈指数级增长,将持续开发创新冷却解决方案。